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臺(tái)積電建構(gòu)全球?qū)@麘?zhàn)略版圖,半導(dǎo)體相關(guān)專(zhuān)利數(shù)量?jī)H次于三星

全球前20大半導(dǎo)體制造廠中,臺(tái)積電在專(zhuān)利強(qiáng)度位居第一,專(zhuān)利數(shù)量則居第二,僅次于三星。

據(jù)臺(tái)灣“中央社”26日消息,臺(tái)積電智慧財(cái)產(chǎn)處專(zhuān)利管理部副處長(zhǎng)王志華今天(26日)表示,臺(tái)積電正積極建構(gòu)全球?qū)@麘?zhàn)略版圖。他透露,臺(tái)積電在關(guān)鍵技術(shù)專(zhuān)利會(huì)提前布局,在技術(shù)推出給客戶(hù)前的7至8年便會(huì)開(kāi)始部署,如16奈米的鰭式場(chǎng)效電晶體(FinFET),且不會(huì)只是點(diǎn)狀申請(qǐng),會(huì)增強(qiáng)專(zhuān)利的豐富性。

王志華指出,全球前20大半導(dǎo)體制造廠中,臺(tái)積電在專(zhuān)利強(qiáng)度位居第一,專(zhuān)利數(shù)量則居第二,僅次于三星。在先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)方面,臺(tái)積電的專(zhuān)利質(zhì)與量都高居全球第一。

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