中國航天科技集團消息，1月12日，由中國航天科技集團有限公司一院航天材料及工藝研究所制造的我國首臺半導體級大尺寸真空腔體順利通過驗收。真空腔體是半導體行業(yè)鍍膜設備的核心結構件，所有的化學反應過程均在腔體內完成，對腔體的密封性、尺寸精度等具有較高的要求。該產品的用戶單位是面向全球高端CVD設備的制造商，其開發(fā)的AP-MOCVD常壓化學氣相沉積設備，可解決當前國內大功率激光器核心芯片氮化鎵鍍膜問題。（證券時報）